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12月22日消息,刻机长期以来,意想用于医学EUV光刻技术一直被主要用于打造最强大的途竟逻辑与存储芯片。
不过比利时微电子研究中心(IMEC)近日首次成功利用ASML的生物EUV光刻设备,在300毫米晶圆上实现了固态纳米孔的刻机晶圆级制造。
这项进展被ASML公关负责人誉为“意想不到且出色的意想用于医学生物医学应用”。
所谓纳米孔,途竟是生物直径仅有几纳米的微小孔洞,其精细程度约为人类头发丝的刻机万分之一,在生物传感领域,意想用于医学纳米孔的途竟作用如同“分子检查站”。
当离子电流流过孔洞时,生物通过其中的刻机分子(如病毒、蛋白质或 DNA)会对电流产生独特的意想用于医学信号,科学家可以根据这些独特的途竟电信号,高灵敏度地辨别分子的尺寸、结构和电荷。
虽然纳米孔在基因组学和蛋白质组学中具有巨大潜力,但过往受限于制造变异性大和集成困难,始终无法实现大规模生产。
imec的突破在于利用EUV技术确保了孔径的高度一致性,目前孔径已精确缩小至约10纳米,未来更有望通过工艺改进突破5纳米。
更重要的是,这种方法与CMOS兼容,意味着生物传感器可以像生产芯片一样在300毫米晶圆上大规模制造。
imec研发项目经理Ashesh Ray Chaudhuri表示,将原本用于芯片制造的EUV基础设施应用于生命科学,已经为高通量生物传感器阵列打开了大门。
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